Die am BIAS entwickelte Computational Shear Interferometrie (CoSI) ermöglicht die vollständige Bestimmung eines Wellenfeldes auf Basis eines Scher-Interferometers. Dies ermöglicht es, die Vorzüge hochpräziser interferometrischer Verfahren, wie z.B. der digitalen Holografie, der phasenschiebenden Interferometrie oder der quantitativen Phasenkontrastmikroskopie mit denen eines Scher-Interferometers zu kombinieren. Das Messsystem bietet daher Messunsicherheiten im Bereich weniger Nanometer bei Verwendung von partiell kohärentem Licht, z.B. aus LEDs, und ist aufgrund des Common-Path-Prinzips weitestgehend unempfindlich gegenüber mechanischen Schwingungen. Die Abbildung zeigt den quantitativen Phasenkontrast eines Zellverbundes.

Die digitale Holografie eignet sich zur 3D-Formerfassung von Mikroobjekten mit Messunsicherheiten im Bereich weniger Mikrometer. Gegenüber anderen Verfahren bietet sie den Vorteil der erweiterten Schärfentiefe und einer kurzen Messzeit von deutlich weniger als 1 Sekunde. Das am BIAS entwickelte System ermöglicht zusätzlich eine Rundummessung der Bauteile. Derzeit wird die digital-holographische Formerfassung für die industrielle Anwendung erprobt. Das Bild zeigt das Zwischenergebnis einer Formmessung, die sog. Konturkarte, die durch die Verwendung von zwei Wellenlängen gewonnen werden kann und in der die Form eines Mikronapfes durch die Verzerrung der Streifen sichtbar wird.

Entwicklung neuartiger Sensoren auf Basis der Oberflächenplasmonen-Resonanzspektroskopie: Die Sensoren basieren auf einer Schicht chemisch aktiver Moleküle, welche sich auf einem dünnen Metallfilm befindet. An dieser Schicht kann die zu detektierende chemische Verbindung temporär angelagert werden. Entlang der Oberfläche der Metallschicht werden durch Licht Oberflächenplasmonen angeregt, deren Spektrum von der Konzentration der gebundenen Moleküle abhängt. Das Bild zeigt eine Versuchsanordnung in der sog. Kretschmann-Konfiguration, in der die Plasmonen an der Unterseite der Metallschicht angeregt werden.